王子ホールディングス（磯野裕之社長）は、木質バイオマスを原料とする最先端半導体向けフォトレジストの最先端半導体プロセス適用可能性を実証し、次世代製造技術として期待されるHigh-NA EUV露光による超微細パターン形成を確認したと発表した。

半導体デバイスの高性能化と低消費電力化に向けて回路の微細化が進む中、非常に短い波長の光（極端紫外線＝EUV）を用いて半導体回路を形成するための次世代露光技術であるHigh-NA EUVリソグラフィは次世代半導体製造を支える中核技術として期待されている。

王子HDは2024年、EUVリソグラフィに対応した木質バイオマスレジストを開発。国内外で規制が進むPFASを使用することなく、高い保存安定性・プロセス安定性と優れた微細パターン形成性能を両立させた。25年からは半導体分野における世界有数の研究開発・イノベーション拠点であるimecとの共同研究を開始し、事業化を目指してきた。

このほど共同研究で、2028年以降の先端ロジック半導体世代であるA14世代に対応する幅10nmの直線パターンと直径16nmのホールパターンの形成を確認。この成果は木質バイオマスレジストの先端半導体製造プロセスへの適用可能性を示すもので、A14世代をはじめとする次世代半導体向け材料としての有望性を裏付けている。王子HDでは引き続き、材料・製造プロセスの改良を進める。